Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems

1、Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems期刊在行业领域中学术影响力较大，专业度认可很高，审稿周期相对较长，是很不错的SCI期刊，如果您的文章质量很高，建议您关注。研究方向为ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC - NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY，建议您投递与此行业相关的稿件，以兔被拒稿耽误您的时间。建议稿件控制10页以上，4600单词字数以上（未翻译中文字数8600字数以上）；文章撰写语言为英语；（单栏格式，单倍行距，内容10号字体，文章内容包含：题目，所有作者姓名、最高学位，作者单位（精确到部门），通信作者邮箱，摘要，关键词，内容，总结，项目基金，参考文献，所有作者相片+简介）。

2、该期刊近年没有被列入国际期刊预警名单（2021年12月发布的2021版），广大学者可以放心选择。鼓励提交以前未发表的文章，禁止一稿多投；拒绝抄袭、机械性的稿件；平均审稿速度 较慢,6-12周 。

3、稿件重复率控制10%以内，论文务必保证原创性、图标、公式、引文等要素齐备，已发表或引用过度的文章将不会被出版和检索。

4、稿件必须有较好的英语表达水平，有图，有表，有公式，有数据或设计，有算法（方案，模型），实验，仿真等。

5、参考文献控制25条以上，参考文献引用一半以上控制在近5年以内；图表分辨率必须达到300dpi；参考文献与文献综述能反映国际研究前沿。

6、若您想联系Journal Of Micro-nanolithography Mems And Moems出版商，请根据该地址联系：SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225。

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