《电子工业专用设备》于1971年创办，全刊信息多却有条有理，坚持打造交流思想和经验共享的主流平台，国内刊号为：62-1077/TN，创刊多年来受到许多读者的支持和喜爱。
《电子工业专用设备》是目前国内电子专用设备领域唯一获正规出版发行的权威专业刊物，多年来为推动我国电子专用设备的发展发挥了极其重要的作用。
Ⅰ、编号应顶格书写。有标题时，在编号后空一字再写标题，另起一行写具体内容。无标题时，编号后空一字写具体内容。
Ⅱ、第一作者必须注明出生年月、性别、籍贯、职称、学历、从事的研究方向或领域；通讯作者必须注明其职称、学历以及从事的研究方向或领域。
Ⅲ、文稿要求论述充分有力，研究方法严谨创新。
Ⅳ、参考文献按出现的次序列在文末，并在文中对应位置以右上角方括弧中的数字表示。详细参考文献格式，见往期杂志。
Ⅴ、摘要是以提供文献内容梗概为目的，不加评论和补充解释，简明、确切地记述文献重要内容的短文。
| 学者姓名 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 童志义 | 43 | 光学光刻；集成电路；光刻；硅；CMP |
| 鲜飞 | 42 | 表面贴装技术；SMT；贴片机；波峰焊；SMT生产 |
| 翁寿松 | 30 | 半导体产业；半导体；半导体设备；铜互连；应变... |
| 柳滨 | 21 | CMP；化学机械抛光；化学机械平坦化；抛光液；... |
| 陈大鹏 | 21 | 半导体器件；刻蚀；MEMS；沟道；焦平面阵列 |
| 颜景平 | 19 | 机器人；冗余度机器人；料器；球磨机；回转误差 |
| 周国安 | 18 | CMP；化学机械平坦化；化学机械抛光；抛光液；... |
| 叶甜春 | 17 | X射线光刻；沟道；半导体器件；版图；衬底 |
| 杨洪星 | 17 | 单晶片；锗；抛光片；晶片；表面粗糙度 |
| 谭立杰 | 17 | 晶圆；直线电机；激光加工；伺服控制；ETHERCAT |
| 机构名称 | 发文量 | 主要研究主题 |
| 中国电子科技集团公司... | 646 | 半导体；光刻；晶圆；电机；抛光 |
| 中国电子科技集团公司... | 229 | 真空；电池；低温共烧陶瓷；太阳能... |
| 中国电子科技集团公司... | 168 | 电池；太阳能电池；太阳能；均匀性... |
| 中国电子科技集团公司... | 118 | 单晶；硅单晶；硅片；晶片；区熔 |
| 电子工业部 | 115 | 半导体；光刻；曝光机；切片；切片... |
| 北京中电科电子装备有... | 92 | 晶圆；划片；划片机；键合；封装 |
| 中华人民共和国工业和... | 75 | 光刻；电路；电子专用设备；集成电... |
| 中国电子科技集团公司 | 68 | 电路；集成电路；化学机械抛光；机... |
| 中国电子科技集团第十... | 66 | 光刻；刻蚀；激光；光刻机；投影光... |
| 中国科学院 | 54 | 光刻；光刻机；电路；半导体；电子... |
| 涉及文献 | 资助项目 |
| 39 | 国家自然科学基金 |
| 37 | 国家高技术研究发展计划 |
| 29 | 国家科技重大专项 |
| 7 | 国家重点基础研究发展计划 |
| 6 | 海南省自然科学基金 |
| 3 | 湖南省自然科学基金 |
| 3 | 国家火炬计划 |
| 2 | 国防基础科研计划 |
| 2 | 电子信息产业发展基金 |
| 2 | 国际科技合作与交流专项项目 |
| 涉及文献 | 资助课题 |
| 9 | 国家高技术研究发展计划(2005AA404210) |
| 8 | 国家科技重大专项(2009ZX02011-005A) |
| 8 | 国家自然科学基金(60576053) |
| 5 | 国家高技术研究发展计划(2009AA043103) |
| 3 | 国家科技重大专项(2012ZX04001-022) |
| 3 | 国家高技术研究发展计划(20094A043103) |
| 3 | 国家高技术研究发展计划(2002AA311243) |
| 3 | 国家自然科学基金(50390064) |
| 3 | 国家火炬计划(2003EB041301) |
| 2 | 国家科技重大专项(2009ZX02010-17) |
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